フォトニクス

制御する技術(発光、検出、収集、伝送、増幅、分析など)に関連する科学分野です。 一般にはあまり知られていませんが、私たちの日常生活から最先端の産業技術や科学技術に至るまで、現代社会のあらゆる分野で応用されています。

21世紀のキーテクノロジー。

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未来の技術に光を当てる

電子工学が、私たちの体や宇宙のあらゆる原子に含まれる微細な素粒子である電子の制御に基づいているのと同じように、フォトニクスも同様に、20世紀初頭にアルバート・アインシュタインによってその存在と物理的特性の一部が発見された「光の素粒子」である光子の特性を利用しようとするものです。

 

光が異なる媒体(空気、ガラス、真空など)中でどのように伝播するかを研究する学問は光学と呼ばれます。 何世紀にもわたり、それは人類が周囲の世界を認識する方法を変えた装置の創造を可能にしてきました。それは、無限に大きいもの(望遠鏡、天体望遠鏡)から、無限に小さいもの(拡大鏡、顕微鏡)、そして人間規模のもの(双眼鏡やカメラのレンズ)に至るまで、あらゆる分野に及びます。

 

フォトニクスはさらに一歩進んで、最も基本的なレベルでの光の生成、伝播、検出を司るメカニズムに注目しています。

 

こうした基礎研究から、今日では何気なく使っている革新的な技術が生まれた。

プロトタイプから生産まで、お客様の業界に役立つ専門知識を提供します。

精密研磨:

  • 直径300mm未満の場合、精度λ/20まで
  • あらゆる種類の材料:シリカ、サファイア、シリコン、ゲルマニウム、セラミック、石英、ゼロデュア…
  • あらゆる形状:窓、鏡、プリズム、レンズ、波板、フィルターなど。
  • 最大1000mmまでの研磨が可能。

 

ガラス製造技術:

  • 化学的強化
  • 熱処理
  • シルクスクリーン印刷
  • レーザーマーキング

 

光学薄膜:

1 – お客様のニーズにお応えする35室以上の客室をご用意しております。

 

2 – 技術:電子ビーム蒸着、イオンアシスト蒸着、スパッタリング、蒸発、熱CVD蒸着。

 

3 – 提案されている波長範囲は、紫外線領域の200 nmから遠赤外線領域の20 µmまでです。これらの波長範囲に応じて、さまざまな種類の材料(ガラス、結晶、カルコゲナイド、金属、半導体など)やさまざまな形状(平面、曲面、円筒、複雑な形状、光ファイバーの端面など)を処理することができます。

 

  • 3 – 提案されている波長範囲は、紫外線領域の200 nmから遠赤外線領域の20 µmまでです。これらの波長範囲に応じて、さまざまな種類の材料(ガラス、結晶、カルコゲナイド、金属、半導体など)やさまざまな形状(平面、曲面、円筒、複雑な形状、光ファイバーの端面など)を処理することができます。
  • マルチスペクトルコーティング
  • 内部(プリズム)または外部
  • フィルター:広帯域、狭帯域
  • 深みのある黒色の吸収性処理
  • 透明導電体(ITO)
  • バスバー
  • 疎水性ソリューション
  • 高レーザー損傷閾値コーティング
  • 顧客の要求に応じて環境への耐性を確保する必要があり、場合によっては過酷な環境への耐性と高い光学性能の間の妥協点を見出す必要がある。

マスキングとリソグラフィー:

様々な技術(フォトリソグラフィー、リフトオフ、
湿式エッチング、レーザー):

  • 光学コンポーネントのマスキングと作成
  • 2インチから8インチの基板上。
  • 幅1μm、厚さ0.15μmまでの解像度
  • 様々な種類の基板およびエッチング材料(Au、Al、Ag、Cr、Cu、Niなど)。

 

 

 

 

 

 

電気鋳造:

  • ニッケルめっき、厚さ30~200μm
  • 円、窪み、ミクロン単位まで閉じた形状
  • 放射および反射用被覆

 

精密切断:

技術:レーザー、型抜き、ウォータージェット、スライサー、プレート切断:

  • ガラス、電池、シリコンウェハー、金属、プラスチック
  • 厚さ最大0.05mm
  • 横方向の平滑化:最大3μm
  • CNC加工

LED照明の新たな用途

フォトニクスは、日常生活の物との相互作用において、新しい用途に活用されています。

この相互作用は、タッチスクリーンである場合もそうでない場合もある画面を介して行われます。また、ポインティング機能が手で行われない場合、眼球追跡用の光電子デバイスを介して行われることもあります。

ここでもHEFは存在感を示し、幅広い用途向けのディスプレイを開発しています。ビデオゲーム用ディスプレイから、ラファール戦闘機のパイロットが使用するタッチパネル、さらには将来のコネクテッド自動運転車プロジェクト向けパネルまで、その範囲は多岐にわたります。

HEF PHOTONICS、イノベーションのパイオニア

当社の子会社であるHEF PHOTONICSは、緊密に連携してシナジー効果を生み出し、フォトニクス分野における最も複雑な技術的課題に対応しています。

それぞれの専門性を組み合わせることで、顧客に革新的で高性能かつ持続可能なソリューションを提供することを保証しています。

当社子会社の生産拠点をぜひご覧ください:

 

 

 

結論として…
光は、私たちを取り巻く世界を知るための主要な手段です。私たちの目という素晴らしい天然のセンサーは、光を驚くべき精度で利用しています。私たちの用途では、光を安全かつ効率的に利用するための、さらに精密な装置を開発する必要があります。それが、フォトニクス分野における当社の専門知識です。 さらに、光との相互作用によって表面を改質できる産業用ツール「フェムト秒レーザー」も使用されています。このツールは、レーザーメーカーが光学系で使用する処理(ミラー、反射防止など)も提供しています。